槽式兆声清洗系统

在微电子制作中的应用 ,使得化学品和超纯水的用量大量减少 ,晶片在化学液中的停留时间减少 ,传统清洗法和超声清洗系统相比对基体特征的损伤最小。利用兆赫兹波产生的液体流动来实现清洗的过程，具有清除深亚微米颗粒的能力，可满足0.1微米线宽技术对清洗工艺的需求，已经广泛应用于硅基芯片制程中的清洗工艺。

• 1MHz超高频超声波
• 声场均匀，声强可超过6W/cm2
• 不锈钢或石英材质振板
• 独特的换能器贴合技术，稳定性性，寿命更长
• 第二代半导体技术的兆声发生器

英文网站：CHEERSONIC ULTRASONIC COATING SOLUTION

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