兆声波清洗技术
兆声波清洗技术 – 兆声波清洗 – 晶圆清洗 – 驰飞超声波喷涂
兆声波清洗是由超声波清洗发展而来的，是利用换能器发出兆赫级高能声波（振动产生 0. 8 MHz ）, 溶液分子在这种声波的推动下作加速运动（最大瞬时速度达到30 cm/s），以强声压梯度及声流作用产生的高速流体力学层连续冲击，使吸附的微细颗粒解吸的清洗技术。作为一种纳米级精密清洗技术，兆声波清洗不但继承了超声波清洗的优点，而且克服了它的缺陷。在粘滞层厚度、功率密度、共振效应、衍射效应方面比超声波清洗技术更有优势。
由于超声波清洗难以清除半导体晶圆表面小于 1 μm 以下的微粒，而兆声波清洗对表面损伤较小，可以有效去掉晶片表面上小于0.2μm的粒子，可达到超声波起不到的作用；同时，兆声波清洗技术频率太高，在溶液中很难发生空化效应，清洗时不会形成超声波清洗那样的气泡，当高频声波能量加速溶液连续冲击硅片表面时，使晶片表面吸附的颗粒等污染物便会随溶液而剥离。对于晶圆片高效能高精密的要求标准来讲，兆声波清洗技术同时起到机械擦片和化学清洗两种方法的作用。
兆声清洗通常分为喷淋式兆声清洗和槽式兆声清洗两种。喷淋式兆声清洗是通过高频超声波换能器将高频超声波通过水流传送出去，被清洗的物体接触带有高频超声波的水流而达到清洁处理的目的。喷淋式兆声清洗相对于传统的槽式清洗，具有更高的清洗效率，并避免了清洗水残留物的二次污染问题。槽式兆声清洗类似传统的超声波清洗，高频兆声清洗振子处于清洗槽的底部，在清洗池中形成高频超声波声场，槽式兆声清洗的优点是可多片晶圆同时清洗，更适合用于批量清洗。
