烷氧基硅烷溶液的超声波雾化 是沉积薄二氧化硅基涂层或通过溶胶-凝胶工艺制备细粉的常用方法。
以下是该过程的详细分解、关键考虑因素以及如何实现所需的液滴尺寸。
本质上是在从前体溶液中制造气溶胶(细液滴雾)。这种气溶胶可以是:
1.沉积在基材上(例如,用于抗反射涂层、疏水层)。
2.在气流中干燥,形成二氧化硅或其他金属氧化物的微球。
3.用于化学反应室(例如,用于液体前体的化学气相沉积,LCVD)。
盐酸(HCl)是烷氧基硅烷水解和缩合反应的催化剂,开始形成二氧化硅(SiO)的过程₂) 网络。
将超声波雾化器用于这种特定的化学溶液会带来几个必须解决的重大挑战,才能取得成功。
1.化学相容性和腐蚀性
2.溶剂蒸发和堵塞
3.溶胶-凝胶反应的控制
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