空白掩膜版的介绍
空白掩膜版的介绍 – 光刻胶涂覆如何保持均匀 – 驰飞超声波喷涂
空白掩膜类似于照相用的未曝光的胶卷底片，上面没有图形和线条。曝光后的胶卷底片相当于掩膜版（别名，mask，光罩，与掩膜基板一字之差，以下统称为光罩），是空白掩膜通过光刻曝光的流程制作得到的，光罩上会有图形和线条。
空白掩膜到光罩的过程主要是曝光、显影、刻蚀、去胶。
光罩在半导体芯片以及液晶面板行业扮演着十分关键的作用，是所有涉及光刻（光刻机）步骤中一种不可或缺的、至关重要的材料。
光罩（mask）上的图形会完美的复制到下方基底（不止硅片）上，会重复的复制。因此光罩是不可或缺的一种重要材料，没有光罩就没有复制的母版，无法进行图形的堆叠。光罩上的缺陷同样会完美复制到基底上，硅片基底上存在无法修复的缺陷，则该张硅片就会报废。因此，务必确保光刻中的光罩是完美无瑕的。
但要确保光罩完美无瑕，则必须要确保空白掩膜完美无瑕。因为光罩是采用空白掩膜制作而成，空白掩膜上存在缺陷，则光罩就会存在缺陷，因此空白掩膜也必须完美无瑕。
综上所述，空白掩膜在半导体芯片、液晶面板行业（TFT-LCD）扮演着无法替代的作用，此外空白掩膜还可以用于MEMS微机电、PCB印刷电路板领域。空白掩膜在生产制造制程领域内发挥着至关重要的作用，没有空白掩膜就无法生产芯片和液晶面板。
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