均匀覆盖光刻胶
杭州驰飞的超声镀膜技术用于需要材料消耗，均匀性，可重复性和控制性的应用中。 我们的超声技术在半导体行业中众所周知，用于精密光致抗蚀剂涂层。杭州驰飞的UAM4000L光刻胶涂布机是理想的设备，可为MEMs等深孔形貌以及旋涂不足的其他挑战性应用提供均匀的光刻胶覆盖。 通过形成非常小的可控液滴，这项独特的技术可以使深孔形貌（例如MEM）和其他旋涂不充分的具有挑战性的应用均匀地覆盖光刻胶。 其他应用包括聚酰亚胺，倒装芯片应用的助熔剂分配以及薄膜太阳能/显示器应用，例如TCO层，纳米悬浮液（CNT，石墨烯，纳米线等），OPV聚合物，AR和CIGS活性层。 有关更多信息，请访问http://www.cheersonic-liquid.cn/zh/photoresist/。
光刻胶晶圆超声波镀膜
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