钙钛矿全流程介绍 - 溶液涂布工艺 - TCO层 - 空穴传输层

钙钛矿全流程介绍

钙钛矿太阳能电池是第三代光伏技术的代表,具备显著的光电特性与产业化潜力。其核心材料ABX₃为有机金属三卤化物,具有光学带隙可调(1.1~2.3eV)、吸收系数高、载流子扩散长度大等优势,同时兼具原料丰富、缺陷容忍度高及成本低的特性。

核心优势
1.1 带隙可调提升理论效率
钙钛矿材料带隙可精准调控,通过与晶硅叠层可覆盖更宽光谱范围,高效吸收不同波长的光。单结钙钛矿电池理论效率达31%,与晶硅叠层后理论效率突破43%。

1.2 低成本制造潜力
相比晶硅电池,钙钛矿工艺流程显著缩短,单GW产能投资更低。其生产集中于单一工厂,省去硅料提纯、硅片切割等环节。数据显示,晶硅电池需4道以上工序,耗时超3天;钙钛矿组件直接由原材料加工成型,大幅降低制造成本。

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溶液涂布工艺
2.1 主要技术路线
1) 刮刀涂布:通过刮板与前驱体溶液的相对运动形成液膜。
2) 狭缝涂布:前驱体溶液经精密泵控,从狭缝头连续挤出形成均匀液膜,适用于工业化连续生产。
3) 喷涂:溶液雾化后沉积于基底,适合大面积薄膜制备。
4) 喷墨打印:非接触式沉积,对基底兼容性高,可直接图案化印刷。
5) 超声涂布:利用高频振动细化前驱液颗粒,提升溶液分散性与成膜均匀性,减少涂层缺陷。

2.2 涂布流程关键环节
– 放卷:基材经张力控制与纠偏系统导入涂布区。
– 涂布:狭缝涂布通过模头挤压形成液珠转移至基材。
– 烘烤:热风或红外加热固化液膜。
– 收卷:面密度检测后卷取成材。

2.3 狭缝涂布应用
– 平板显示:用于LCD/OLED的PI膜、光刻胶涂布,材料利用率较旋涂提升75%。
– 新能源电池:适用于钙钛矿光活性层、锂电池极片涂布,其中动力电池以狭缝挤压式为主。

真空蒸发镀膜
3.1 基本原理
在真空环境下,通过物理气相沉积(PVD)使靶材气化沉积成膜,主要分为:
1) 蒸发镀膜:电阻加热靶材蒸发沉积。
2) 溅射镀膜:氩离子轰击靶材溅射成膜。
3) 离子镀膜:靶材电离后电场加速沉积。
钙钛矿层制备以蒸发镀膜为主,包括共蒸法(多源同步蒸发)与分步蒸发法(顺序沉积调控比例)。

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3.2 工艺流程
1) 镀前处理:基底清洁、蒸发材料配比计算。
2) 真空制备:高真空环境保障分子自由程与膜层附着力。
3) 预熔除杂:去除靶材吸附气体及低熔点杂质。
4) 蒸发沉积:控温蒸发与后处理成膜。

钙钛矿薄膜制备对比
4.1 溶液法(湿法)
– 一步法:前驱液旋涂成膜,操作简便但结晶可控性差。
– 两步法:先沉积PbI₂层再反应生成钙钛矿,薄膜均匀性更优。
– 痛点:结晶过程需真空气盒(VCD)控制相变,大面积成膜易产生孔洞。

4.2 气相法(干法)
– 优势:兼容非平整基底(如绒面晶硅),适合叠层电池。
– 局限:设备成本高,需破真空退火,生产效率较低。

4.3 工艺对比结论
| 指标 | 溶液涂布 | 真空蒸发 |
| 成本 | 低(湿法速度快) | 高(设备复杂) |
| 基底兼容性 | 需平整表面 | 适用绒面/非平整基底 |
| 成膜质量 | 易产生针孔缺陷 | 致密均匀 |

其他功能层制备
– TCO层:超声镀膜
– 空穴传输层:
– 氧化镍(NiOx):磁控溅射法成膜质量最优,溶液法易产生针孔。
– 聚合物材料(如Poly-2PACz):通过多磷酸基团增强界面结合,厚度不敏感特性适配大面积涂布,实现26%的电池效率与优异紫外稳定性。

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超声涂布前驱体溶液
超声涂布技术通过高频振动使前驱体溶液中的纳米颗粒均匀分散,减少团聚,从而提升钙钛矿薄膜的覆盖率与结晶一致性。该方法可有效抑制溶液法常见的针孔缺陷,为高性能大面积钙钛矿电池提供新途径。

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