半导体芯片是电子设备的“大脑”,其制造如同在微观世界建造摩天大厦。整个过程始于基础材料——晶圆。
1. 晶圆制备:基础基石
芯片的起点是富含二氧化硅的砂粒:
* 高温熔炼提纯,获得超高纯度多晶硅。
* 晶体提拉法生长出完美的圆柱形单晶硅锭。
* 硅锭经精密切割、研磨、抛光,最终成为表面如镜的超平滑晶圆。晶圆尺寸越大,可生产的芯片越多。
2. 氧化工艺:绝缘屏障
晶圆需在高温下形成一层薄而致密的氧化层。它既是保护层,也是关键的绝缘屏障,能有效防止电流泄漏,其均匀度要求极高。
3. 光刻工艺:绘制电路蓝图
光刻如同微观世界的精密印刷:
* 在晶圆上均匀旋涂光敏胶。
* 通过特定波长的光线和掩膜版进行曝光。
* 显影溶解曝光区域,精准复制出纳米级的电路图形。
4. 刻蚀工艺:精密切割
刻蚀将光刻胶上的图形转移到下方的材料层:
* 湿法刻蚀(化学溶液)适合简单图形。
* 干法刻蚀(等离子体)能实现高深宽比、侧壁陡直的立体结构,精度要求极高。
5. 薄膜沉积与离子注入:赋予功能
此阶段赋予硅基体导电性:
* 原子级精度的薄膜沉积技术堆叠所需材料。
* 高能离子注入精确掺入特定杂质原子。
* 后续热处理激活杂质,形成关键的PN结(电路开关)。
6. 金属布线:连接通路
构建芯片内部的导电网络:
* 在介质层刻蚀出纳米沟槽。
* 沉积超薄阻挡层防止金属扩散。
* 电镀高纯度金属(如铜)填充沟槽,形成导线。需确保微小导线能承载高电流密度。铝因其良好粘附性和工艺兼容性,是互连的常用材料。
7. 电性测试:品质把关
对晶圆上的芯片进行严格测试:
* 参数测试(电压、电流、速度等)。
* 功能测试(逻辑、存储单元验证)。
* 可靠性测试(高温、静电等)。
高良品率是先进制程的关键指标。
8. 封装工艺:保护与连接
为芯片穿上“盔甲”并连接外部世界:
* 切割晶圆分离出单个芯片。
* 将芯片固定在基板上。
* 用极细金属线连接芯片与外部引脚。
* 模压封装提供物理和环境保护。
封装后的芯片需通过严苛环境测试以确保长期稳定运行。
总结:
从普通砂粒到功能强大的芯片,凝聚了材料科学、量子力学、精密机械等多领域的尖端智慧。一枚指甲盖大小的芯片上,集成了数十亿个晶体管和数公里长的极细导线,展现了人类在微观尺度上的非凡创造力。
超声波喷涂技术用于半导体光刻胶涂层。与传统的旋涂和浸涂工艺相比,它具有均匀性高、微观结构良好的封装性和可控制的涂覆面积大小等优点。在过去的十年中,已经充分证明了采用超声喷涂技术的3D微结构表面光刻胶涂层,所制备的光刻胶涂层在微观结构包裹性和均匀性方面都明显高于传统的旋涂。
超声波喷涂系统可以精确控制流量,涂布速度和沉积量。低速喷涂成形将雾化喷涂定义为精确且可控制的模式,以在产生非常薄且均匀的涂层时避免过度喷涂。超声喷涂系统可以将厚度控制在亚微米到100微米以上,并且可以涂覆任何形状或尺寸。
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杭州驰飞是超声镀膜系统开发商和制造商,产品主要应用于燃料电池质子交换膜喷涂、薄膜太阳能电池、钙钛矿、微电子、半导体、 纳米新材料、玻璃镀膜、 生物医疗、纺织品等领域。
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