光刻胶沉积

光刻胶沉积 – 光刻胶涂覆 均匀 – 半导体晶圆制备用涂层 – 驰飞超声波喷涂

驰飞超声波喷嘴已被证明能够成功地将光刻化学品分配到半导体晶片和平板显示器上。它是要求高精度的光刻胶工艺的理想选择。驰飞仍然处于新兴电子应用的前沿，为先进电池、超级电容器、纳米线、碳纳米管和OLED平板显示器等新技术提供精密薄膜涂层系统。

超声波喷涂光刻胶的优点包括：

• 深井地形（如MEM）内的均匀覆盖。

• 减少光致抗蚀剂消耗。

• 严格的沉积密度控制。

• 传输效率高

英文网站：CHEERSONIC ULTRASONIC COATING SOLUTION