谈谈没量产的18吋晶圆
谈谈没量产的18吋晶圆 – 光刻胶涂布设备 – 驰飞超声波喷涂
18英寸晶圆引进时程趋缓，主要因初期需要大规模投资，由于晶圆尺寸改变，相关设备必须配合变动，不仅需要建设新工厂，设备也需要更换，对晶圆制造厂和设备厂来说负担不小。一旦计划失败恐导致较大影响，使得各家设备大厂频踩煞车。
目前半导体行业大多转向活用现有设备，朝微细化先进制程方向进行发展和演进。曾经的希望现在越来越渺茫，目前450mm晶圆离我们不但没有变近，反倒更加模糊不清。
鉴于当前经济和技术的种种形势，转向450mm晶圆的步伐很有可能会继续延缓。一位来自某半导体厂商的高管称，半导体业界绝不会减缓升级节点制程的速度，因为人们普遍认为，从节点制程的缩减中所获取的利益，要比采用更大尺寸晶圆所获得的成本利益更为重要。
但事物总是要发展的，如今先进制程到了3nm甚至2nm以后，摩尔定律逐渐失速，不知业界是否会将目光重新聚焦到450mm晶圆上来。
超声喷涂系统可以使用先进的喷涂技术来精确控制流速、镀膜速度和沉积量。低速喷涂成型将雾化喷涂定义为精确，可控的图案，在生产非常薄且均匀的涂层时避免过度喷涂。事实证明，使用超声波技术进行喷涂是在3D微结构上沉积光致抗蚀剂的可靠且有效的方法，从而减少了由于过多的金属暴露于蚀刻剂而导致的设备故障。
超声波喷涂系统已被证明适用于需要均匀、可重复的光致抗蚀剂或聚酰亚胺薄膜涂层的各种应用。杭州驰飞的喷涂系统可以控制从亚微米到100微米以上的厚度，并且可以涂覆任何形状或尺寸。它是其他涂层技术（例如旋涂和传统喷涂）的可行替代方案。
杭州驰飞的无阻塞超声涂层技术以其功能性和保护性材料的超薄微米涂层而闻名。喷嘴的超声振动有效地将颗粒分散在悬浮液中，并在薄膜层中产生非常均匀的颗粒分散，而导电颗粒没有从悬浮液中沉降出来。
在过去的十年中，对半导体进行了直接喷涂光刻胶涂层，并且对喷涂结果进行了深度研究，超声喷涂的光刻胶涂层显示出优于传统的旋涂。超声波喷涂是一种简单、经济和可重复的工艺，用于光刻晶圆加工中的喷涂光刻胶涂层。超声波喷涂系统可对流速、沉积速度和沉积量进行精细控制。低速喷雾成形，避免过喷，同时产生非常薄且均匀的涂层。
